高功率半导体激光国家重点实验室-长春理工大学
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光刻胶处理系统
2019-10-12 浏览:

                                                            

仪器名称:光刻胶处理系统

仪器型号:GIGAbatch310M

生产厂家:德国PVA-TePla

仪器安装地点:南校区理工科技大厦一楼超净室

仪器管理员:鲍妮

设备简介:功能:去除光刻胶残胶,晶圆和衬底的清洁。