高功率半导体激光国家重点实验室-长春理工大学
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运行管理

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光刻机
2019-05-17 浏览:

仪器名称:光刻机

仪器编号:(H97-17,国产南光),[2B]

仪器简介:

用途:
主要用于光刻曝光使用
主要技术参数:
1.曝光类型:单面
2.曝光面积:≥φ120mm
3.光束不平行度:≤6°
4.曝光不均匀性:≤±5%
5.曝光强度:≥5mw/cm2
6.曝光分辨率:≤1.5μm
7.曝光模式:套刻曝光
8.对准精度:≥5μm
9.扫描范围:X:±40mm   Y:±35mm
10.对准范围:X、Y调节±4mm,旋转调节90°
11.最大升降:8mm