仪器名称：磁控溅射台

仪器型号：JCP-500M4

生产厂家：北京泰科诺科技有限公司

仪器安装地点：超净大厅

仪器管理员：张家斌

设备简介：

主要功能：用来沉积各种金属膜，包括：Au、Ni、AuGe等，用于半导体器件电极的制备。技术指标：工作真空5′10^-5P

参考工艺结果：Ni50nm/AuGe100nm/Au300nm