5月22日，“高功率半导体激光国家重点实验室-北京英作纳米(科技)有限公司交流会”在我室举行。长春理工大学张宏副校长、实验室相关人员以及北京英作纳米(科技)有限公司王东君研究员一行2人出席会议。
    王东君研究员做了题为《原子层沉积技术回顾与展望》的学术报告 ，该学术报告主要介绍了原子层沉积技术的原理，详细描述目前原子层沉积技术在半导体器件、光学器件、生物材料、微纳机电系统、新能源、纳米结构等领域的应用，同时也对这种技术未来发展做出了展望，列举出许多极具发展前景的器件和产品。并与我实验室科研人员就重点实验室建设、管理、发展等方面进行了深入交流。在人员交流与技术达成了合作意向。期间，北京英作纳米(科技)有限公司与长春理工大学高功率半导体激光国家重点实验室达成合作协议，赠送我室ALD实验设备一台，价值六十多万元。长春理工大学聘请王东君研究员为我校兼职教授，张宏副校长颁发了聘书。

　　　　本次学术交流会，为实验室的发展提供了宝贵经验，也为我室与北京英作纳米(科技)有限公司的进一步合作奠定了基础。