用户登录   |   收藏本站   |   设为首页
首      页 实验室简介新闻动态研究队伍组织机构科研工作仪器设备学术交流研究生培养

+  首页   >   仪器设备 > 设备信息

光刻机

仪器名称:光刻机

仪器编号:(H97-17,国产南光),[2B]

仪器简介:

用途:
主要用于光刻曝光使用
主要技术参数:
1.曝光类型:单面
2.曝光面积:≥φ120mm
3.光束不平行度:≤6°
4.曝光不均匀性:≤±5%
5.曝光强度:≥5mw/cm2
6.曝光分辨率:≤1.5μm
7.曝光模式:套刻曝光
8.对准精度:≥5μm
9.扫描范围:X:±40mm   Y:±35mm
10.对准范围:X、Y调节±4mm,旋转调节90°
11.最大升降:8mm
版权所有:长春理工大学高功率半导体激光国家重点实验室 通信地址:长春市卫星路7186号科技大厦A209 邮编:130022 电话:0431-85582473

+ 网站制作 By 联合信息